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更新:2024-04-10
刻蚀工艺研发工程师(深硅刻蚀)
1.5-3万
| 本科 | 社招
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职位详情
五险一金
餐饮补贴
年终奖金
定期体检
职位信息
1.负责干法刻蚀工艺的研发和实施,在规定的时间内完成新工艺研发;
2.针对新工艺要求或问题,提供解决方案。并制定相关工艺规格,以及工艺适用条件和范围,保证研发质量。
3.负责新型机台工艺的调试,并制定操作标准。
任职资格:
1. 大学本科或以上学历,理工类专业;
2. 有深硅刻蚀设备工艺经验,熟悉Bosch刻蚀工艺,了解常见的深硅刻蚀设备;
3. 良好的沟通和表达能力,具备团队合作精神。
职能类别:半导体工艺工程师
关键字:干法刻蚀新工艺研发深硅刻蚀刻蚀工艺
工作地址
湖北省武汉市东湖开发区黄龙山南路6号
刻蚀工艺研发工程师(深硅刻蚀)
1.5-3万
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公司介绍
武汉高德红外股份有限公司创立于1999年,是规模化从事红外探测器、红外热像仪、大型光电系统、防务类系统研发、生产、销售的高新技术上市公司。
公司总市值超过200亿元,员工总数2300余人,其中研发团队近1000多人,营销服务网络遍布全球70多个国家和地区,并在比利时成了欧洲分公司。
公司产品广泛应用于电力、冶金、石化、建筑、消防、执法、检验检疫、安防监控、车载夜视等民用领域。公司正以红外焦平面探测器产业化为契机,积极推进红外热成像产品的“消费品化”。
2010年公司顺利登陆深圳A股主板市场,股票代码:002414。
工商信息
以下信息来自
企业类型
股份有限公司(上市、自然人投资或控股)
经营状态
存续
行业类型
专业技术服务业
成立日期
2004年07月13日
注册地址
武汉市东湖开发区黄龙山南路6号
统一社会信用代码
91420100764602490E
若用人单位提供虚假招聘信息,以担保或其他任何名义收取财物,扣押或以保管为名索要证件,都属于违法行为,应当提高警惕。
发布于前程无忧
公司基本信息
武汉高德红外股份有限公司
电子/IC/半导体
上市公司
1000人以上
http://www.wuhan-guide.com/Category.aspx?lang=zh&id=8
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