职位详情
岗位职责 ：
1、制定、完善刻蚀的工艺方法、操作流程、注意事项，完成文件的编制；
2、干湿法刻蚀工序新材料、新工艺的开发、导入和验证，进行工艺优化；
3、刻蚀工艺重大异常解决，工艺平台优化，工艺能力提升；
任职要求：
1、硕士及以上学历，物理、化学、材料相关专业；3年以上半导体工作经验 ；
2、熟悉半导体工艺制程，对薄膜生长、干湿法刻蚀工艺有深入了解；
3、有独立主导工艺或材料开发、导入项目经验。
工作地址
鄂州-华容区湖北光安伦科技有限公司鄂州市华容区光谷联合科技城C9-5
公司介绍
武汉光安伦光电技术有限公司于2015年成立，总投资2亿元，是国内光通信行业专业从事光电子芯片外延片生长、芯片设计与制作、工艺开发及封装设计的生产厂家。现有武汉/鄂州两处研发制造基地，员工200余人，目前月产800万颗芯片，主要服务于中兴、华为、中国信科、诺基亚等国内知名通信制造商。
公司核心技术人员占40%以上，在高速芯片领域拥有50多项核心自主知识产权，专注设计研发和智能制造光电子芯片，在光通讯集成芯片、高速光芯片研发及生产上取得技术性突破，性能指标达到国际同类水平。现入选武汉3551人才企业，获湖北上市后备“金种子”企业称号。
公司致力于打造国内专业的光电子芯片品牌，并努力成为国际一流的光芯片供应商，为客户提供高信价比的产品和服务，开创信息社会和大数据时代的美好明天。
