神光光学集团有限公司成立于 2007 年 6 月 27日，注册资本 13655 万元。 神光光学起源于 2002年“863 计划”，聚焦高品质合成熔石英玻璃的研发和生产 20 余年，代表国内最高水平的石英玻璃生产技术水平。
公司自2002年开始专注于合成紫外熔石英玻璃（Ⅰ类、JGS1、ZS）技术的开发， 2005年突破了大规格熔石英玻璃生产技术的瓶颈，生产出了国内第一根Ф230×1570mm的熔石英玻璃毛砣，开创了国内立式沉积工艺生产紫外熔石英玻璃的先河，是国内立式沉积工艺的开拓者和先行者，改变了国内长期以来行业工艺技术落后的局面，促进了行业技术的升级换代和快速发展。
公司致力于自主创新，着力攻克关键核心技术，已拥有31项国家专利，另有多项专利待授权。公司先后承担了国家级、省部级、市级科研项目二十余项，关键技术指标在国内处于领先水平，并已达到国际先进水平。 公司的产品广泛应用于航空航天、精密光学、光刻技术、半导体等应用领域，是国内高端合成熔石英玻璃的主要供应商，代表国内合成熔石英领域最高水平。
近年来，公司开发TFT及芯片用光掩模基板产品，取得了重大的进展和标志性的成果，开发研制成功多款半导体用光掩模产品，各项技术指标均达到了用户的标准，开启了迈向半导体国际产业的新征程。
“求实创新，志存高远”，在于敏等老一辈科学家精神的鼓舞下，神光的员工将青春、智慧和汗水融入公司，致力于成为全球一流的光学材料企业，期待为不同国家、不同领域的客户提供最优质的产品和服务。